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簡(jiǎn)要描述：LSX-213nm激光剝蝕 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統使用的高性能硬件及高精度光學(xué)部件，帶來(lái)效果優(yōu)異的光學(xué)分辨率，達到清晰觀(guān)察效果的同時(shí)并具有寬泛的視野，配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調的透射照明和反射照明系統，確保在極大放大倍數下也能清晰觀(guān)察樣品。
產(chǎn)品型號：LSX-213廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-05-10訪(fǎng) 問(wèn) 量： 2017產(chǎn)品分類(lèi)
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激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線(xiàn)源于全球行業(yè)之一的Photon Machines團隊（縮寫(xiě)PMI），其第一代產(chǎn)品于1995年問(wèn)世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造及應用經(jīng)驗，產(chǎn)品線(xiàn)涉及213nm固態(tài)激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統（與ICP-MS聯(lián)用），及CO2和二極管激光熔融系統（與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀(guān)的分析軟件能夠增強并完善系統的功能，足以為全球元素分析用戶(hù)提供先進(jìn)的激光剝蝕技術(shù)。
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統產(chǎn)品特點(diǎn)：
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統內置性能良好密閉的泵浦燈和MIL-SPEC標準設計制造的激光源，給操作者帶來(lái)非常穩定的激光能量和低維護成本，配備了高精度獨立減震光學(xué)平臺后，系統能夠在多種苛刻環(huán)境中進(jìn)行多種樣品分析。
LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光學(xué)部件，帶來(lái)效果優(yōu)異的光學(xué)分辨率，達到清晰觀(guān)察效果的同時(shí)并具有寬泛的視野，配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調的透射照明和反射照明系統，確保在極大放大倍數下也能清晰觀(guān)察樣品。
LSX-213 G2+ 采用開(kāi)放式樣品池位置設計，能夠兼容多種樣品池，并支持用戶(hù)定制樣品池。軟件方面可以控制內置光圈自動(dòng)切換，剝蝕斑點(diǎn)直徑范圍4-200μm，系統通過(guò)與ICP通訊實(shí)時(shí)調整能量、斑點(diǎn)大小和掃描速度等參數。 簡(jiǎn)潔實(shí)用的結構設計，不僅提供了穩定的性能，同時(shí)具有良好的易維護性，為您提供便利高效的工作過(guò)程，實(shí)現定點(diǎn)——剝蝕——分析的三步目標。
213nm激光剝蝕,固態(tài)激光剝蝕
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統技術(shù)參數：
五倍頻213nm Q-switched控制的Nd:YAG固態(tài)激光源，脈沖能量≥6mJ，脈沖寬度≤4ns
脈沖穩定性＜3%
平頂激光技術(shù)，達到良好的剝蝕坑
激光光路和觀(guān)察光路獨立設計，防止機械震動(dòng)干擾和熱源干擾，具有非常高的穩定性
脈沖頻率1-20Hz可調，輸出能量1-100%可調
剝蝕斑點(diǎn)范圍4-200μm
密閉且易維護的激光源設計
計算機控制，連續調節的等焦面共焦點(diǎn)設計，顯微光學(xué)放大倍數15-60x
觀(guān)察視野>6mm（光學(xué)分辨率＜2μm）
高強度LED陣列照明系統
電動(dòng)旋轉偏振系統
開(kāi)放式樣品池位置設計，靈活性高
多種樣品池可選，兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
XY平臺步進(jìn)分辨率0.16μm
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統應用領(lǐng)域：
環(huán)境樣品分析，物證樣品分析，農產(chǎn)品樣品分析，同位素定性分析，生物樣品分析，大體積進(jìn)樣定量分析，地質(zhì)樣品分析，樣品缺陷分析，元素分布圖繪制分析，透明和半透明樣品分析，深度剝蝕分析。
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